森乐公司在2013年北京水展经销商大会上介绍特种滤料

navyyang

在2013年北京水展的经销商大会上，森乐公司介绍了除铅、除砷、阻垢等多种功能滤料。

0 J5 i: N% n/ ]2 E, D: u( b0 x# ~现场讲话全文如下：
: c# T5 Z. a4 |

! q- y  G! `, r8 D7 y) {+ {7 q% o《特种滤料在饮水安全中的作用与价值》
$ {  O! e" t) ?——美国森乐净化技术(上海)有限公司 总经理 杨海军
! X2 b9 d& N1 y9 O1 ?- `1 y. h: z7 W
# m. H% e; f. E: D- o
" W* M9 X! V9 P# [: Q- j: S0 s/ C/ s" p　首先感谢《直饮水时代》创造这样的机会和大家分享，在这次会上，我为大家介绍特种滤料对净水产品的影响。有不少朋友对我有一些了解，我曾经在GE和怡口各工作过几年，在2011年加入到森乐，负责森乐的运营。
$ e6 {; y' G! [( _& r7 p　　森乐是美国三大净水品牌之一，是专业的做分离滤料的生产企业，这些滤料在过去几十年里一直影响着整个行业。。森乐于1975年成立，在企业发展过程中根据市场需要将部分的生产能力分离出来专门从事整机生产。
5 s7 V2 r7 Y- z　　去年底在全国各个地方发生的不同污染事件，大家感受到水越来越不安全，怎么能让水更加安全?更放心?
7 v7 u  w8 Q$ A' x6 W' ~2 S- _2 m　　RO机可以解决部分问题，但是它也会有局限性。大家应该都想过：能否用简单的滤料处理并产生很好的效果?
　　现在国内大部分净水企业更多考虑的是改变产品外观，大部分企业在残酷的同质化竞争中不能提供客户希望的产品，都很被动。
　　有谁能够从中真正的认识到是污染帮我们教育了客户，也给我们从业者带来了商机?这很困难。本人从事该行业有20年经历，对此深有体会。
0 N% ?3 d# W- K　　石英砂、砾石等滤料非常简单，暂时不多介绍。
　　我们从活性炭开妈，活性炭是很常见的标准滤料。在座的各位对国产的活性炭有所了解，部分产品很难达标。一般的活性炭在一定条件下对某些直接的污染物处理效果尚可，但更高的功能要求就很难达到。
　　森乐通过纳米加工技术，在微观上改变炭粉结构，利用工艺能把活性炭去污效果提升到很好，常见有机和化学污染物的90%以上能够有效去除。
　　通过纳米技术，活性炭的指标发生了什么变化呢?用液体衡量比表面积有3－5倍的增加，参数的改变使得大分子的有机物或者化学物质可以进入到活性炭内部的吸附通道里面，进而被去除。
0 U) R1 u/ q% u9 v% P6 K% ]　　如果污染物分子量非常大，原来根本没办法除掉，现在活性炭有比较大的孔隙率，化学办法处理率非常高（类似前一段时间的河北山西跨境污染事件的污染物或是上海死猪事件造成的污染物，活性炭很轻松可以除掉，但用差的活性炭效果就不太好，如果用森乐的优质活性炭效果会很好）。
9 U7 V, Z+ z. t! @; F　　在水污染事件爆发后，大家可以一起把坏事变好事作为动力推动行业的发展。
, V) X& S2 t* }+ K　　目前常见的污染物有50几种，包括农药等，用超微中空炭性可以除掉绝大部分。有报道说有北京的一对夫妇是做水行业的几十年不喝水，主要的原因是化学污染。在美国实验室所做的实验显示：到目前在中国市场尚未发现有可以去掉氯胺的炭粉。
' v  _4 B& u: `4 |4 Z2 N　　能够彻底去除污染的活性炭生产企业主要集中在欧美地区。其实活性炭自身把功能充分的发挥出来就可以做的很好。

　　另外，对于某些不方便使用RO机的场合（如流量非常大、没有专业的维护人员、又希望设备得到一定的保护的场合），经常有用户对阻垢功能有需求，原来大家用的多数是添加硅丽晶来处理，如果用森乐的专用催化阻垢滤料就不需要加入药剂达到阻垢效果，目前全球真正达到效果并得到NSF认可的只有森乐，产品的实际效果也已经得到验证。
9 o$ H1 B1 M7 q5 J" Q
　　此外重金属铅、汞也是大家关注的污染物，铅对儿童的危害特别大。除铅有非常标准的原理基础，但是国内很难拿到比较合适的滤料。森乐利用自己的技术特长，把除铅滤料的过滤效果提升了很多，目前森乐已经是全球两大除铅滤料生产厂家之一，占有约50%的市场份额。
　　森乐公司在国内提供各种各样的合作，包括滤料、项目配套，以及成品零售、OEM等。
3 r2 r: u8 l6 Z# F  G$ q
　　森乐特种功能滤料满足客户前所未有的特性需求，森乐活性炭产品，能为第四届全国水家电经销商代理商大会的所有与会者带来更大的价值。
. Z* B5 v, _# J

navyyang

相关的PPT文件见附件。
3 x, n  a5 L3 p; }如果有什么疏漏之处，请大家指正。
# d" z, k% _8 m* N